สวิตชิงเพาเวอร์ซัพพลายสําหรับการเคลือบสารแบบสปัตเตอริง

มหาวิทยาลัยเกษตรศาสตร์;สำนักงานคณะกรรมการอุดมศึกษา;กระทรวงศึกษาธิการ;กระทรวงเกษตรและสหกรณ์;กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี;กระทรวงทรัพยากรธรรมชาติและสิ่งแวดล้อม;กระทรวงเทคโนโลยีสารสนเทศและการสื่อสาร;สำนักงานคณะกรรมการวิจัยแห่งชาติ;สำนักงานกองทุนสนับสนุนงานวิจัย

การประชุมทางวิชาการของมหาวิทยาลัยเกษตรศาสตร์ ครั้งที่ 42

กรุงเทพฯ

3-6 ก.พ. 2547

กรุงเทพฯ

หน้า 11-18

499 หน้า

ไทย

Thai National AGRIS Centre, Office of The University Library Kasetsart University, P.O. BOX 1084 Kasetsart Chatuchak, Bangkok 10903, Thailand

สวิตชิงเพาเวอร์ซัพพลาย;แหล่งจ่ายไฟฟ้า;การเคลือบสาร;สปัตเตอริง;ประสิทธิภาพ

SWITCHING POWER SUPPLY;SPUTTERRING;COATING;EFFICIENCY

งานวิจัยนี้เป็นการสร้างแหล่งจ่ายไฟฟ้าแบบสวิตชิงเพาว์เวอร์ซัพพลายที่สามารถจ่ายแรงดันไฟฟ้าที่ 300-800 โวลท์ให้กับเครื่องเคลือบสารแบบสปัตเตอริงซึ่งเป็นวิธีการเคลือบสารบนชิ้นงานแบบต่าง ๆ ที่ใช้ในระะบบ อุตสาหกรรมกันอย่างกว้างขวาง ในขณะที่ควบคุมกระแสไฟฟ้าให้ไหลบนขั้วคาโถดของเครื่องเคลือบสารแบบ สปัตเตอริง ต่ำกว่า 2 แอมแปร์โดยมีการควบคุมกระแสไฟฟ้าคงที่แบบปรับค่าได้และแหล่งจ่ายดังกล่าวจะต้อง ทนต่อการเกิด High Voltage Transients ซึ่งเกิดจากพลาสมาในระบบแมกนีตรอนรวมทั้งการอาร์คของระบบ ด้วย ในการอาร์คเพียงเล็กน้อยอันเกิดจากสารเจือปน และ Dielectric Breakdown บนเป้าสารเคลือบ ซึ่งเกิดขึ้นชั่วขณะระบบป้องกันของเครื่องควรจะจํากัดกระแสอาร์คนี้โดยไม่ตัดวงจร จากนั้นนําแหล่งจ่ายไฟฟ้าแบบ สวิตชิงเพาว์เวอร์ซัพพลายมาทดลองกับเครื่องเคลือบสารแบบสปัตเตอริง และทําการวิเคราะห์ผลการเคลือบสาร บนวัสดุทดสอบเทียบกับค่าที่ได้จากการคํานวณ ตลอดจนทําการตรวจสอบประสิทธิภาพของสวิตชิงเพาเวอร์ซัพ พลายที่สร้างขึ้นและทําการปรับแต่งจนได้สวิตชิงเพาว์เวอร์ซัพพลายที่มีประสิทธิภาพสูงสุดเท่าที่จะทําได้

In this paper present a construction of Switching power supply which have output voltage about 300-800 volt. It is applied for Sputtering coating system. The sputtering coating system is method of coat on workpiece. It uses widely for industrial. The switching power supply are controlled output current at cathode less 2 amp which operated in stable of current when adjust. It can use for high voltage transients which generated from plasma and arc in magnetron system. The little arc generated from solution and dielectric on cathode (Target),it generated for a moment. which protection of switching power supply must limit arc current that can work. Then, we are using the switching power supply generated electric power for sputtering coating system and analysis results of coating system are compared between calculation of efficiency in coating system ( RE). Finally, we are tests the efficiency of switching power supply of sputtering coating and adjust to maximum efficiency.

[1] อุทัย กรรณแก้ว (สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี คณะวิศวกรรมศาสตร์ ภาควิชาวิศวกรรมระบบควบคุมและเครื่องมือวัด สาขามาตรวิทยาทางอุตสาหกรรม)
[2] พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ (สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี คณะวิศวกรรมศาสตร์ ภาควิชาวิศวกรรมระบบควบคุมและเครื่องมือวัด สาขามาตรวิทยาทางอุตสาหกรรม)

[1] Uthai Kankeaw
[2] Pichet Limsuwan